高真空热蒸发薄膜沉积系统（科鑫圣KXS-ZF-6Y）
位 置：半导体工艺与集成电路测试实验室II（A2-110a）
负责人：曹海燕 84832236
高真空热蒸发薄膜沉积系统 高真空蒸发铝薄膜
设备简介：
高真空磁控溅射系统需要较高的真空度，是薄膜制备技术中镀膜相对成熟的方法之一。主要应用研究方向蒸发金属、半导体、介质和低温有机材料，用于制备单层或多层薄膜材料，是大专院校和科研院所从事材料和薄膜研究的理想平台。在薄膜工艺参数优化、热蒸发工艺原理等方向开展科研，已经取得的主要成果包括ZnO纳米线的热蒸发法制备及其受激辐射研究，热蒸发法制备第Ⅳ族半导体纳米线的研究进展等。