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    • 高真空磁控溅射系统(中科院SKY/TRP-450)

    高真空磁控溅射系统(中科院SKY/TRP-450)

    • 发布日期 2018年5月24日

            位  置:半导体工艺与集成电路测试实验室I(A2-109a)

            负责人:王莉 84832236

                      

                                       高真空磁控溅射系统                                                                               射频溅射氮化钛薄膜

    设备简介:

            高真空磁控溅射系统需要较高的真空度,是薄膜制备技术中镀膜相对成熟的方法之一。主要应用研究方向为高质量薄膜的制备和薄膜工艺参数的优化,以及研究和制备半导体器件,应用于半导体工艺原理、电子薄膜技术和半导体工艺综合实训等课程的实验。已经取得的主要成果包括基于金属ZnO异质结构的压电纳米发电机的设计与实现,摩擦纳米发电机的研制和相关机理分析等。

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