高真空磁控溅射系统（中科院SKY/TRP-450）
位 置：半导体工艺与集成电路测试实验室I（A2-109a）
负责人：王莉 84832236
高真空磁控溅射系统 射频溅射氮化钛薄膜
设备简介：
高真空磁控溅射系统需要较高的真空度，是薄膜制备技术中镀膜相对成熟的方法之一。主要应用研究方向为高质量薄膜的制备和薄膜工艺参数的优化，以及研究和制备半导体器件，应用于半导体工艺原理、电子薄膜技术和半导体工艺综合实训等课程的实验。已经取得的主要成果包括基于金属ZnO异质结构的压电纳米发电机的设计与实现，摩擦纳米发电机的研制和相关机理分析等。