单面光刻机（南光H94-25C型）

        位  置：半导体工艺与集成电路测试实验室I（A2-109a）

        负责人：王莉 84832236

                                                       单面光刻机                                                                                                                                                           光刻校徽

设备简介：

        光刻机是应用于光刻平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。主要应用研究方向中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。在光刻工艺、原理、技术等方向开展科研，已经取得的主要成果包括光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模，光刻机的演变及今后发展趋势等。